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  • NLD-3500(M)原子層沉積系統

    NLD-3500(M)原子層沉積系統:ALD原子層沉積可以滿足精確膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的...

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  • NLD-4000(M)原子層沉積系統

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    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2024/8/12 15:20:39 對比
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  • NLD-4000(ICPA)全自動PEALD系統

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  • 進口ALD設備

    進口ALD設備:ALD原子層沉積可以滿足膜厚控制以及高深寬比結構的保形沉積,這方面ALD原子層沉積遠超過其它沉積技術。由于前驅體流量的隨意性不會帶來影響,所以在...

    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 13:45:12 對比
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  • 等離子體增強MOCVD

    等離子體增強MOCVD:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的...

    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 13:33:53 對比
    等離子體增強MOCVDPA-MOCVDPAMOCVD等離子體增強MOCVD
  • 金屬有機化學氣相沉積系統MOVPE設備

    金屬有機化學氣相沉積系統MOVPE設備:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(各帶獨立的冷卻槽)...

    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 13:31:57 對比
    MOCVD設備金屬有機化學氣相沉等離子體輔助MOCVDMOVPE設備PA-MOCVD報價
  • NMC-4000(M)PA-MOCVD設備

    NMC-4000(M)PA-MOCVD設備:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個...

    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 13:23:52 對比
    MOCVD設備金屬有機化學氣相沉等離子體輔助MOCVDMOVPE設備PA-MOCVD報價
  • NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統

    NMC-4000(A)全自動PAMOCVD系統:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有...

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  • NMC-4000(M) MOCVD設備

    NMC-4000(M) MOCVD設備:NANO-MASTER針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD...

    型號: 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 12:21:32 對比
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  • NMC-3000等離子輔助MOCVD

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  • NLD-4000(ICPM)PEALD系統

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  • NLD-3500(A)全自動原子層沉積設備

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  • NLD-4000(A)全自動原子層沉積系統

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  • 原子層沉積系統

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  • MOVPE設備

    NMC-4000 MOVPE設備:針對InGaN及AlGaN沉積工藝所研發的臺式等離子輔助金屬有機化學氣相沉積系統(PA-MOCVD),該系統具有5個鼓泡裝置(...

    型號: NMC-4000 所在地:國外參考價: 面議更新時間:2023/11/13 10:40:16 對比
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